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WaferMasters Thermal Processing
- 專業TSV (3D IC矽穿孔) 熱處理機
- 世界唯一的專利高效熱處理技術
- WaferMasters熱處理機台對於TSV製程中的良率有革命性的提升
- WaferMasters熱處理機台是TSV製程的解決方案
何謂 TSV?
TSV 技術讓連接線也可在晶片中間,並不侷限於晶片周圍,使得內部連接路徑更短,相對使晶片間的傳輸速度更快、雜訊小、效能更佳;同時可達到高密度構裝,並可應用於異質晶片堆疊,如類比及數位、矽基及三五族、記憶體與射頻等。
TSV 的立體互連技術比打線接合具有更短的互連路徑、更低的電阻與電感,以及更有效率地傳遞訊號與電力,還擁有不限制裸晶推疊數量等優勢。CMOS SENSOR、記憶體已在採用 TSV 技術,未來基頻、射頻、處理器等應用趨勢愈來愈明顯。



SAO-302LP 系統說明:
- 採用電阻加熱原理
- 模組化設計,適合堆疊製造
- 溫度控制最高可達 450°C
- 適用於低溫退火
- 可同時處理 5片晶圓
- 高重複性與穩定性
- 成本低、結構簡單且堅固
應用:
- CU退火
- AL燒結
- H₂退火
- SOD退火
- 低k電介質退火
- 聚酰亞胺烘烤
- SILK退火
- 矽化 (NiSi)
- 光阻烘烤與回流
- 低溫LPCVD
主要特色與規格:
簡單且穩健的設計
兼容真空和溫度控制
- 低殘留O2(<5PPM)
- H2或合成氣體
工作溫度範圍
-100~450°C
- H2或合成氣體
優異的工藝均勻性:<1%
優異的工藝可重複性:<3°C(範圍)
有競爭力的吞吐量
快速安裝:0.5天
兩個真 空電纜負載鎖定
最小維護:每6到12個月
無耗材
最小設施要求:
- 電力:3相220VAC 30A
- 製程氣體:最多2線
- 冷卻水
小尺寸
節能:<7KW標態,最大12KW
內置兩個FOUP開啟器










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