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WaferMasters Thermal Processing

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- 專業TSV (3D IC矽穿孔) 熱處理機

- 世界唯一的專利高效熱處理技術

 - WaferMasters熱處理機台對於TSV製程中的良率有革命性的提升

 - WaferMasters熱處理機台是TSV製程的解決方案

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何謂 TSV?

TSV 技術讓連接線也可在晶片中間,並不侷限於晶片周圍,使得內部連接路徑更短,相對使晶片間的傳輸速度更快、雜訊小、效能更佳;同時可達到高密度構裝,並可應用於異質晶片堆疊,如類比及數位、矽基及三五族、記憶體與射頻等。

TSV 的立體互連技術比打線接合具有更短的互連路徑、更低的電阻與電感,以及更有效率地傳遞訊號與電力,還擁有不限制裸晶推疊數量等優勢。CMOS SENSOR、記憶體已在採用 TSV 技術,未來基頻、射頻、處理器等應用趨勢愈來愈明顯。

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SAO-302LP 系統說明:

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- 採用電阻加熱原理

- 模組化設計,適合堆疊製造

- 溫度控制最高可達 450°C

- 適用於低溫退火

- 可同時處理 5片晶圓

- 高重複性與穩定性

- 成本低、結構簡單且堅固

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應用:
 

- CU退火
 

- AL燒結
 

- H₂退火
 

- SOD退火
 

- 低k電介質退火
 

- 聚酰亞胺烘烤
 

- SILK退火

- 矽化 (NiSi)

- 光阻烘烤與回流

- 低溫LPCVD

主要特色與規格:

簡單且穩健的設計
兼容真空和溫度控制
- 低殘留O2(<5PPM)
- H2或合成氣體

工作溫度範圍
-100~450°C
- H2或合成氣體

優異的工藝均勻性:<1%
優異的工藝可重複性:<3°C(範圍)

有競爭力的吞吐量
快速安裝:0.5天
兩個真空電纜負載鎖定
最小維護:每6到12個月
無耗材

最小設施要求:
- 電力:3相220VAC 30A
- 製程氣體:最多2線
- 冷卻水

小尺寸

節能:<7KW標態,最大12KW

內置兩個FOUP開啟器

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